岩本 光生 (IWAMOTO, Mitsuo)

所属

大分大学工学部機械・エネルギーシステム工学科 准教授

連絡先

• E-mail：iwacc.oita-u.ac.jp
• 〒870-1192 大分市旦野原７００番地
• 097-554-7806
• 097-554-7790

所属学会名

化学工学会、伝熱学会、日本機械学会、日本結晶成長学会

研究分野

熱工学

研究キーワード

チョクラルスキー法、液体金属、磁場印加、磁化力対流、ペルチェ加熱・冷却、ドライアイスブラスト洗浄、液体金属のスピンアップ、パルスレーザー加熱

研究概要

1. 液体金属流動の磁場による制御
   概要：　液体金属の流れを磁場で制御する研究をしています。応用としてはチョクラルスキー法（Ｃｚ法）によるシリコン単結晶の製造などがあります。現在直径300mm単結晶育成では超電導磁石による水平磁場の印加などが行われていますが、変動磁場である回転磁場を印加することによりルツボ内の流れや濃度分布の制御ができないかを、数値シミュレーションや金属ガリウムを用いたモデル実験などにより研究を行っています。
2. 磁化力による対流制御
   概要：　磁性体や導電性材料が磁場中で力を受けることは知られていますが，水や酸素などの非磁性・非導電性材料でも強い磁場勾配下では磁化力という力を受けます。常磁性体（磁石に引きつけられる）の酸素ガスでは10テスラの磁場下を加えたとき重力の約45倍の力を受け，水（反磁性体：磁石に反発する）の場合重力の約1/3の力を受けます。このような強い磁場は超伝導磁石により用いることが可能になってきています。このためこのような強磁場下で，非導電性流体などの流れを制御するための基礎的な研究を行っています。
3. パルスレーザーによる表面加工のシミュレーション
   概要：直径数マイクロのパルスレーザーによる微細加工の研究をしています。応用としてはコンピュータの記憶装置として広く使われているハードディスクの記憶媒体表面に10nm程度の小さな突起をパルスレーザ−で作成するなどがあり、また材料やレーザー出力などの条件によりそれがどのように変化するかを数値解析により研究しています。
4. ドライアイスブラストによる洗浄技術
   概要：概要：半導体関連の洗浄方法としてドライアイスの微粒子を高圧で噴射し，洗浄対象物表面の汚れを剥離させて落とすドライアイスブラスト技術の研究を行っています。応用として半導体製造装置の部品洗浄などがあります。現在一般的に薬液による洗浄が行われていますが、この方法は廃棄物が殆ど出ないという利点があります。この研究は大分県LSIクラスタ形成推進会議の支援の下で行っています。
5. ペルチェ素子を用いた樹脂成形金型の加熱・冷却
   概要：樹脂成形の金型は電気ヒーターや蒸気などにより加熱しており、また水により冷却するのが一般的です。これに対し、ペルチェ素子の電流の切り替えにより加熱・冷却の双方ができる利点を生かし、金型温度をコントロールできないかについて、簡単な実験装置を用いて検討を行っています。

照会先（HP URL）

http://www.en.oita-u.ac.jp/~miwaken/

紹介記事

http://www.radc.oita-u.ac.jp/seeds/index.html

論文リスト

http://www.en.oita-u.ac.jp/~miwaken/

その他